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High-Resolution Array ICP-OES PlasmaQuant ® PQ 9000 Optische Emissionsspektrometrie mit induktiv gekoppeltem Plasma

High-Resolution Array ICP-OES PlasmaQuant PQ 9000 · Optics V Shuttle Torch Dual View Plus High Resolution HR High Frequency 2 Clevere Details der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie: High-Resolution

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Page 2: High-Resolution Array ICP-OES PlasmaQuant PQ 9000 · Optics V Shuttle Torch Dual View Plus High Resolution HR High Frequency 2 Clevere Details der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie: High-Resolution

V Shuttle Torch Dual View PlusOptics

High ResolutionHR

High Frequency

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Clevere Details der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie: ■ High-Resolution Optics

Einzigartiges Auflösungsvermögen für bedingungsloses Vertrauen in die Ergebnisse

■ V Shuttle Torch Intelligentes Torch-Design für komfortable High-End-Funktionalität

■ Dual View PLUS Flexible Plasmabeobachtung für größte Applikationsvielfalt

■ High-Frequency Generator Maximale Plasmaleistung für überzeugende Langzeitperformance

PlasmaQuant® PQ 9000 Kosteneffektive Analytik ohne Kompromisse

PlasmaQuant® PQ 9000 Elite Hochaufgelöste Emissionsspektroskopie in revolutionär kleinem Design

PlasmaQuant® PQ 9000-SerieLassen Sie sich von beeindruckender analytischer Performance überzeugen und erleben Sie was innovative High-End-Technologie tatsächlich bedeutet.

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PlasmaQuant® PQ 9000 Measure to the point!

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Ob zuverlässige Routineanalytik oder extravagante Spezial-anwendung – die PlasmaQuant® PQ 9000-Serie entspricht allen Ihren analytischen Anforderungen: einfache Handha-bung, größte Applikationsvielfalt und höchste Genauigkeit.

Fortschritt in Torch-Design und Plasma-Technologie, ein cleveres Bench-Top-Konzept, anwenderorientierte Software-Routinen und ein bewährter Spektrometeraufbau ermögli-chen absolute Genauigkeit und Präzision, größte Methoden-flexibilität sowie einen Bedienkomfort der Maßstäbe setzt.

PlasmaQuant® PQ 9000-Serie — Wegweisende Technologien Das außergewöhnliche analytische Potenzial der Plasma- Quant® PQ 9000-Serie resultiert aus dem perfekten Zusammenspiel von vier einzigartigen Technologien:

■ High-Resolution Optics ■ V Shuttle Torch ■ Dual View PLUS ■ High-Frequency Generator

Durch die hohe Genauigkeit der High-Resolution Optics wird absolutes Vertrauen in Ihre analytischen Ergebnisse zur Realität.

Das intelligente Konzept der V Shuttle Torch erlaubt Ihnen, sich ganz den analytischen Anforderungen zu widmen. Höchste optische Präzision und Matrixtoleranz sind jederzeit gewährleistet.

Dual View PLUS-Plasmabeobachtung verbessert sowohl Ihren linearen Arbeitsbereich als auch Ihre Nachweis- grenzen und überwindet dabei die Grenzen der traditionel-len ICP-OES.

Störfreies Plasma für höchsten Probeneintrag und an-spruchsvollste Matrices liefert der High-Frequency Generator. Er reduziert Ihre Probenvorbereitung auf ein Minimum und bietet Reproduzierbarkeit ohne Kompromisse.

Jeder Herausforderung gewachsenProfitieren Sie von unserer jahrzehntelangen Erfahrung in der Entwicklung von High-End-Spektrometern. Mit einer einzigartig hochauflösenden Array-Tech-nologie bietet Analytik Jena ICP-Emissionsspektrometer mit unvergleichlicher analytischer Performance!

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Ein neuer StandardFür die Spurenanalytik komplexer Materialien ist es die Probenbeschaffenheit, die die Geräteanforderungen vorgibt. Hohe Matrixgehalte erfordern eine hohe Plasmaleistung! Einzigartige Nachweisgrenzen setzen ein einzigartiges Spektrometer voraus!

Das PlasmaQuant® PQ 9000 und das PlasmaQuant® PQ 9000 Elite bieten ungeahntes analytisches Potenzial! Innovative Technologie überwindet analytische Defizite der Vergangenheit und setzt neue Standards in der Effizienz Ihrer Analytik.

PlasmaQuant® PQ 9000 – Überzeugender AllrounderGehen Sie bei matrixreichen Proben keine Kompromisse ein! Mit der neusten Plasma- und Torch-Technologie von Analy-tik Jena analysieren Sie leichtflüchtige organische Lösungs-mittel, Solen und andere anspruchsvollste Materialien ganz bequem direkt.

Seine besondere Matrixtoleranz macht das PlasmaQuant® PQ 9000 zum Gerät der Wahl für Anwender mit großer Probenvielfalt, hoher Matrixlast sowie für den analytischen Schichtbetrieb in der Industrie. Profitieren Sie von reduzier-ter Probenvorbehandlung und den niedrigsten matrixspezifi-schen Nachweisgrenzen, welche die Präzision, Praktikabilität und Produktivität Ihrer Analytik nachhaltig verbessern.

PlasmaQuant® PQ 9000 Elite – Erstklassige DetektionIn der Materialanalyse mittels ICP-OES hat sich die Hoch-auflösung als Garant für effektive Datenerfassung und erstklassigen Bedienkomfort etabliert. Nur hohe spektrale Auflösung gestattet beste Präzision und Nachweisgren-zen bei zunehmender Komplexität industrieller Produkte und Forschungsproben. Durch die Beseitigung spektraler Interferenzen können die empfindlichsten Emissionslinien in nahezu jeder Probe verwendet werden – für hervorragende Nachweisstärke!

Hochauflösung für höchste Ansprüche: Mit seinem unüber-troffenen Auflösungsvermögen steht das PlasmaQuant® PQ 9000 Elite für Klarheit, Verlässlichkeit und einfache Handhabung in anspruchsvollen analytischen Aufgaben.

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V Shuttle Torch

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Intelligentes Torch-KonzeptLeistungsstarkes Plasma für extrem matrixreiche Proben, wie Salzsolen, Metallkonzentrate oder Petrochemikalien, bedarf eines Probenzufuhrsystems, das widerstandsfähig und einfach in der Handhabung ist.

Das übersichtlich angeordnete und leicht zugängliche Pro-benzufuhrsystem der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie zeichnet sich durch kurze Wege zwischen einer Vier-Kanal-Peristaltik-pumpe, einem EasyFit®-Zerstäuber, einer Zyklonsprühkam-mer und der V Shuttle Torch aus. So werden gleichmäßiger Probeneintrag, hohe Aerosolausbeute, kürzeste Spülzeit und größter Probendurchsatz erzielt. Leistungssteigernde Zube-höre und ein Hydridsystem können gleichzeitig verwendet werden.

Störfreie Plasmaperformance Die aufrechte Anordnung der V Shuttle Torch verhindert periodisch auftretende Ablagerungen sowie Rußbildung und garantiert exzellente störfreie Plasmaperformance für jede Probenmatrix. Diese ablagerungsfreie, vertikale Torch verbessert Ihre RSD- und Blindwerte. Aufwendige nassche-mische Probenvorverdünnung gehört der Vergangenheit an.

Praktisches Shuttle-Design  Die Vorteile eines kompakten und gleitenden Torch-Shuttles, gefertigt aus thermisch und chemisch beständigem Mate-rial mit innenliegenden Gasanschlüssen, sind vielfältig und liegen auf der Hand.

Die bequeme Plug-and-Play-Installation von Torch-Rohren macht aus der Torch-Handhabung ein Kinderspiel und erleichtert Reinigung und Methodenwechsel. Sobald Sie das Shuttle auf die Führungsschiene montieren, werden alle Plasmagase automatisch angeschlossen und Sie können die Torch mühelos in die Probenposition führen.

Neben dem hohen Komfort und der Sicherheit der Torch-Installation ist eine präzise Selbstjustierung der V Shuttle Torch fortwährend gewährleistet. Das trägt zu einer sehr guten Reproduzierbarkeit Ihrer ICP-OES-Daten bei.

Das clevere Design der V Shuttle Torch reduziert Stillstandzeiten und führt zu Einsparungen bei den Instandhaltungskosten.

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Plug-and-PlayMit einem einfachen Handgriff können je nach Belieben Injektor, inneres und äußeres Torch-Rohr in das Torch- Shuttle eingesetzt oder ausgebaut wer-den. Die Präzisionsglassteckverbindun-gen der V Shuttle Torch gewährleisten eine dauerhaft leckagefreie Zufuhr von Plasma-, Hilfs- und Zerstäubergas.

Shuttle-Interlock  Die V Shuttle Torch wird einfach auf den auf einer Führungsschiene fest sitzenden Schlitten aufgesteckt und ohne weitere Hilfsmittel montiert. Dank innenliegender Gasanschlüsse erfolgt der Gaseintrag ohne Glas- und Schlauchsteckverbindungen – für höchste Anwendersicherheit und Langlebigkeit.

Auto-AlignmentMit der Hand geführt, gleitet die V Shuttle Torch mühelos in den Pro-benraum, wo sie in der Probenposition punktgenau einrastet.

Diese einfache Routine ermöglicht Ihnen den schnellen Ein-, Um- und Ausbau der V Shuttle Torch zwischen verschiedenen Routineanwendun-gen oder zum Zweck der Reinigung, ohne aufwendiges Nachjustieren der Probenposition.

V Shuttle Torch — Ihre Vorteile ■ Unübertroffene Benutzerfreundlichkeit in der täglichen Routine ■ Außergewöhnliche Toleranz hoher Matrixeinträge ■ Herausragende analytische Leistung ■ Reduzierung von Wartungsaufwand und Instandhaltungskosten ■ Steigerung Ihrer Produktivität

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Dual View Plus

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Das gewisse ExtraDa die ideale Plasmabeobachtungsrichtung für Spurenelemente und Haupt- komponenten stark variiert, müssen bei Spektrometern, die ausschließlich axiale oder radiale Plasmabeobachtung vorsehen, starke Abstriche bei der analytischen Performance komplexer Proben gemacht werden.

Die vielseitige Dual View PLUS-Plasmabeobachtung unterstützt sowohl die Ultraspurenanalyse von Reinraumlaboren als auch die Routineanalytik in der Schwerindustrie.

Dual View PLUS revolutioniert die hochauflösende optische Emissionsspektrometrie nachhaltig. Die Signalintensität einzelner Emissionslinien kann einfach der benötigten Empfindlichkeit durch Art und Abschwächung der Plasma-beobachtung angepasst werden, so dass stets die beste Plasmabeobachtung für alle Elemente und Konzentration gewährleistet ist.

Größter Arbeitsbereich Die automatische Abschwächung der Signalintensität von axial und radial detektiertem Licht erweitert den linearen Arbeitsbereich. Durch die Verfügbarkeit von vier sich kom-plementär ergänzenden Plasmabeobachtungen erhöht sich neben der Flexibilität und Robustheit ihrer Methoden vor allem deren Effizienz, da Sie alle Plasmabeobachtungen in einer Messung verwenden können. Die gleichzeitige Bestim- mung von Konzentrationen im Bereich niedriger ppb bis hoher Gewichtsprozente ersetzt damit die zeitaufwendige Probenvorverdünnung.

Argon-neutrale Counter-Gas-TechnologieEine neuartige Counter-Gas-Technologie beseitigt neben Rekombinationsinterferenzen und der Selbstabsorption des kälteren Plasmaschweifs jedweden Sauerstoff und ermög-licht eine hohe Transparenz des analytischen Strahlengangs. Das im Gegenstrom geführte Gas beeinträchtigt dabei weder die Plasmastabilität der radialen Betrachtung noch die axiale Plasmalänge und erzielt exzellente Signalstabilität und Nachweisstärke.

Die Qualität der mittels Dual View PLUS erhaltenen spek-tralen Daten überwindet so die Grenzen konventioneller ICP-OES. Es werden sowohl die niedrigsten Nachweisgren-zen in axialer als auch die höchsten oberen Bestimmungs-grenzen in der radial PLUS-Plasmabeobachtung erreicht.

Die Wiederverwendung des recycelten Spektrometer- Spülgases macht die Counter-Gas-Technologie der Plasma-Quant® PQ 9000-Serie darüber hinaus Argon-neutral und somit sehr wirtschaftlich.

Dual View Plus realisiert außergewöhnliche Empfindlichkeit unabhängig von Ihrer Messaufgabe und meistert die Anfor-derungen Ihrer Analytik bequem und mit Leichtigkeit.

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radial

axialaxial PLUS

radial PLUS 

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Dual View PLUS — Ihre Vorteile ■ Beste Plasmabeobachtung für alle Elemente und Konzentrationen ■ Größter linearer Arbeitsbereich der ICP-OES ■ Argon-neutrale Counter-Gas-Technologie für einzigartige Empfindlichkeit ■ Steigerung der Produktivität in allen Anwendungen ■ Bedienkomfort, der neue Maßstäbe setzt

radial und radial PLUS Zur interferenzfreien Bestimmung von mittleren und hohen Analytgehalten ist die radiale Plasmabeobachtung der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie die Methode der Wahl.

Die Signalintensität jenes schmalen Plasmaausschnittes, der in der radialen Betrachtung beprobt wird, kann darü-ber hinaus in radial PLUS-Beobach-tung so reduziert werden, dass selbst Elementgehalte im Bereich hoher Gewichtsprozente ohne Probenvorver-dünnung bestimmbar sind.

Die radial PLUS-Plasmabeobachtung erweitert Ihren linearen Arbeitsbereich, reduziert komplexes Probenhandling und verbessert so Ihre Produktivität.

axial und axial PLUS Die axiale Plasmabeobachtung der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie ist die Routine zur Spurenanalyse, die den Bereich hoher ppm- bis niedrigster ppb-Gehalte abdeckt. Ihre Nachweis-grenzen, die in den ppt-Bereich rei-chen, sind ein Novum in der ICP-OES.

Die automatische Intensitätsabschwä-chung des axial detektierten Lichtes in axial PLUS-Betrachtung reduziert die Empfindlichkeit von Emissionslinien. Für Proben mit hohen Analytgehalten kann dadurch Probenverdünnung bzw. Wechsel zur radialen Beobachtung, de-ren Beobachtungshöhe matrixabhän-gig optimiert werden muss, vermieden werden.

Axial PLUS verbessert Methoden-flexibilität, Präzision und Reprodu-zierbarkeit Ihrer Daten bei hoher Probendiversität.

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Optics

High ResolutionHR

Garantiebedingungen: www.analytik-jena.de

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High ResolutionLeistungsstarke Nachweisgrenzen sind der Schlüssel zu Genauigkeit, Robustheit und Einfachheit in der Routineanalytik. Bei komplexen Probenmatrices, Signal-unterdrückung und spektralen Interferenzen gestatten nur die leistungsstärks-ten Spektrometer maximale Empfindlichkeit und höchste spektrale Auflösung.

Das einzigartige Auflösungsvermögen der High-Resolution Optics des PlasmaQuant® PQ 9000 Elite garantiert unüber-troffene Empfindlichkeit für reale Probenmatrices. Ein be-währter Echelle-Spektrometeraufbau aus leistungsstarkem Doppelmonochromator bestehend aus Prisma und Gitter sowie der neuesten hochauflösenden HR-CCD-Detektor-Generation sorgt für interferenzfreie Routineanalytik mit ausgezeichneter Produktivität.

Interferenzfreie Routineanalytik Mit einer spektralen Auflösung von 2 pm bei 200 nm bietet das PlasmaQuant® PQ 9000 Elite ein ausgezeichnetes Auf-lösungsvermögen, das selbst die kleinsten spektralen Details aufdeckt! „Klassische“ spektrale Überlagerungen werden einfach aufgelöst. So lassen sich in nahezu jeder Probe die empfindlichsten Emissionslinien interferenzfrei detektieren und beste Nachweisgrenzen erzielen, die weit in den ppt-Bereich hineinreichen.

Hohe Produktivität Dank der neuesten HR-CCD-Detektor-Generation bietet die PlasmaQuant® PQ 9000-Serie hohe Quanteneffizienz, einen dynamischen Messbereich von mindestens sechs Größen-ordnungen, schnelle simultane Untergrundkorrektur, erhöhte UV-Empfindlichkeit sowie vielseitige Integrations-modi für beste Nachweisgrenzen, simultane Auswertung mehrerer Elemente und Scans von Wellenlängenbereichen. Dank einzigartiger Wellenlängengenauigkeit von weniger als 0,4 pm durch vollautomatische Neon-Korrektur gehören Spektrometertemperierung sowie regelmäßige Wellenlän-genkalibration der Vergangenheit an. Eine innovative Beschichtung der optischen Bauteile minimiert Streulichtverluste und sichert exzellente Emp-findlichkeit über einen lückenlos erfassten Wellenlängenbe-reich von 160 bis 900 nm mit Zugang zu mehr als 43.000 Emissionslinien.

High-Resolution Optics — Ihre Vorteile ■ Größte Auswahl an Linien für höchste Flexibilität ■ Interferenzfreie Analytik für höchste Genauigkeit ■ Niedrigste Nachweisgrenzen in realen Proben für

hervorragende MethodenrobustheitNur wenige Pikometer trennen diese Cadmium- und Arsenlinie, doch beide können problemlos einzeln ausgewertet werden.

Die kompakte Anordnung hochwertiger optischer Bauteile ermöglicht das einzigartige Auflösungsvermögen des PlamaQuant® PQ 9000 Elite.

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Überzeugende Plasmastabilität dank leistungs- starkem High-Frequency Generator: Li 670 nm ( ), Mn 257 nm ( ), Al 396 nm ( )

Long-term plasma stability for any line due to High-Frequency Generator: Li 670 nm ( ), Mn 257 nm ( ), Al 396 nm ( )

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Die neuartige Plasmatechnologie des High-Frequency Generator bietet selbst unter Extrembelastungen und für die anspruchsvollsten Probenmatrices eine überzeugende Plas-maperformance. Neben einer merklichen Erweiterung des Anwendungsspektrums, tragen niedrigere matrixspezifische Nachweisgrenzen sowie die Reduzierung des Probenhand-lings maßgeblich zu Verbesserung von Methodenrobustheit, Präzision und Produktivität bei.

Störfreie Direkte Analyse Der freilaufende 40 MHz RF-Generator bringt mittels einer neuartigen Hochleistungsspule mit vier Windungen Leis-tung von 700 bis 1700 W mit dem höchsten Wirkungsgrad in ein Plasma von außerordentlicher, analytisch nutzbarer Länge ein. Durch High-Power-Einstellungen, wie sie für die industrielle Routineanalytik von Solen, Metallkonzentraten, flüchtiger Organik oder petrochemischer Materialien unab-dingbar sind, läuft das Plasma störfrei und stabil.

Eine vollautomatisierte Anpassung des Leistungseintrags an die tatsächlich vorliegende Probenlast im Plasma garantiert gleichbleibende Plasmabedingungen und unübertroffene Langzeitstabilität aller Emissionslinien mit minimaler Inten-sitätsdrift über die Dauer eines Arbeitstages.

Hervorragende Signal-Rausch-Verhältnisse, deutlich erhöhte Empfindlichkeit durch gesteigerten Leistungseintrag sowie RSD-Werte um 1 % für gängige Probenmatrices verbessern neben der Präzision vor allem die Praktikabilität Ihrer ICP-OES Routinen.

Kosteneffiziente AnalytikDas exzellente Aufwärmverhalten ermöglicht schnelle Mess-bereitschaft, zügigen Methodenwechsel und hohe Produk-tivität in allen Routinen sowie im Schichtbetrieb. Mit der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie sind Geräteabschaltung und schnelle Messbereitschaft kein Widerspruch, sondern Mittel der Wahl!

Grenzen sprengenDie Praktikabilität der Spurenanalytik in hochkonzentrierten Proben mittels ICP-OES hängt zuallererst vom Leistungspotenzial des Plasmas ab, welches anstandslos schnell wechselnden Probenfrachten und -matrices standhalten muss.

High-Frequency Generator — Ihre Vorteile ■ Höchste Matrixtoleranz für verbessertes

Anwendungspotential ■ Bedienkomfort bei außergewöhnlicher

Methodenflexibilität ■ Exzellente RSD-Werte mit minimalem Aufwand ■ Schichtbetrieb mit kompromissloser Präzision ■ Deutliche Steigerung der Produktivität

Überzeugende Plasmastabilität für alle Emissionslinien dank leistungs-starkem High-Frequency Generator: Li 670 nm ( ), Mn 257 nm ( ), Al 396 nm ( )

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Erstklassige Detektion Die High-Resolution Optics des PlasmaQuant® PQ 9000 Eli-te bildet jedes noch so kleine spektrale Detail genau ab. Das sichert höchste Präzision, bietet ungekannte Nachweisstärke in schwierigen Matrices und vereinfacht die Handhabung.

Geniale Technik Leistungsstarke Spektrometer-Technologie „Made-in-Germany“ und einzigartige Softwarelösungen gewährleisten hervorragende Methodenflexibilität und erstklassigen Bedienkomfort für analytische Höchstleistung, z.B. in der Materialanalyse, Qualitätskontrolle oder der Forschung.

Marktführer Die High-Resolution Array ICP-OES Technologie von Analytik Jena setzt neue Maßstäbe. Absolutes Vertrauen in Ihre analytischen Ergebnisse wird zur Realität!

PlasmaQuant® PQ 9000 Elite – die Nummer Eins in spektraler Auflösung und Empfindlichkeit.

PlasmaQuant® PQ 9000 Elite

Durch die Beseitigung spektraler Interferenzen können die empfind-lichsten Emissionslinien in nahezu jeder Probe verwendet werden!

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V Shuttle Torch Dual View Plus High Frequency

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PlasmaQuant® PQ 9000

Überzeugender Allrounder  Mit einem Fokus auf breiter Anwendbarkeit, einfacher Bedienung und Wirtschaftlichkeit in normalen Applikationen ist das PlasmaQuant® PQ 9000 das ICP-OES für alle, die mehr wollen!

Mehr Matrixtoleranz  Die konkurrenzlose Matrixtoleranz des High-Frequency Generator verbessert die Methodenrobustheit in der Umwelt-analytik, in der Materialanalyse von Polymeren und geologi-schen Proben u.a. Die damit verbundene deutliche Reduzie-rung der Probenvorbereitung und schnellere Messbereitschaft des PlasmaQuant® PQ 9000 vereinfacht z.B. den Schichtbe-trieb und erhöht Ihre Produktivität.

Mehr Benutzerfreundlichkeit Dank des vertikalen Plasmas der V Shuttle Torch analysieren Sie selbst sehr matrixreiche Proben, wie Böden, Petroche-mie, galvanische oder salzhaltige Abwässer stör- und abla-gerungsfrei. Installation und Wartung der Torch belaufen sich auf eine einfache Plug-and-Play-Routine, die ohne Schlauch- und Glassteckverbindungen und ohne aufwendi-ges Nachjustieren der Torch-Position auskommt.

Mehr Messbereich Mit den vier sich komplementär ergänzenden Plasmabeob-achtungen des Dual View PLUS analysieren Sie Spurenele-mente und Hauptbestandteile, z.B. in Proben aus Landwirt-schaft und Lebensmittelindustrie, gleichzeitig. Reduzierung von Probenvorbereitung, Vermeidung von Wiederholungs-messungen sowie ein linearer Arbeitsbereich von niedrigen ppb bis hohen Gewichtsprozenten stellen hervorragenden Bedienkomfort sicher.

Die Argon-neutrale Counter-Gas-Technologie trägt darüber hinaus zur exzellenten Empfindlichkeit über einen lücken-los erfassten Wellenlängenbereich von 160 bis 900 nm mit Zugang zu mehr als 43.000 Emissionslinien bei. Die spektrale Auflösung von weniger als 6 pm bei 200 nm erfüllt alle Anforderungen klassischer ICP-OES-Applikationen mit kompromissloser Genauigkeit.

PlasmaQuant® PQ 9000 – Ihr zuverlässiger, ergebnis- orientierter Partner für die Auftragsanalytik, Qualitäts- und Produktionskontrolle!

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Das ASpect PQ Softwarepaket steuert, überwacht und do-kumentiert alle Prozesse der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie und ihrer Zubehöre. Ein modularer Aufbau ermöglicht sowohl hohe Flexibilität für Anwender mit sehr individuellen, analyti-schen Anforderungen als auch die Nutzung von voreingestell-ten Routinemethoden, die einfach zu bedienen und modifi-zieren sind. Online-Status-Updates auf Smartphones, Tablets usw. steigern die Produktivität im unbeaufsichtigten Betrieb.

Pick-and-Click Messen Sie Ihre Proben ganz einfach! Dank einer übersicht-lichen, mehrsprachigen Benutzeroberfläche, lassen sich Me-thoden zügig durch die Wahl der zu bestimmenden Elemente und der bevorzugten Emissionslinien je nach Matrix gene-rieren. Sämtliche vorinstallierte Methodenparameter werden automatisch geladen und los geht es!

Interaktive Software-Applets mit umfassenden Informationen (z.B. BEC-Werte, Interferenzen, Stockstandards, Korrektur-modelle, Proben-IDs) und Hilfestellungen stellen sicher, dass jeder Anwender richtige Ergebnisse im ersten Versuch erhält.

Clevere Reporting-Tools  Neben Reporting-Tools, z.B. für die 100 %-Normierung von Element- und Oxidgehalten, steht auch eine schnelle Übersichtsanalytik für unbekannte Proben mittels integ-rierter Kalibrierkurven zur Verfügung. LIMS-Anbindung und ein FDA-Modul mit erweiterter Benutzerverwaltung stärken die Einsatzmöglichkeit der PlasmaQuant® PQ 9000-Serie. Normen sämtlicher Branchen und Industrien sowie 21 CFR Part 11 sind gewährleistet.

Self Check System  Dank intelligenter Überwachung aller Geräteparameter in Echtzeit – inklusive Zerstäuberverstopfung, Plasmastabilität zum Schutz der Glasbauteile der Torch – sowie automa-tischer Benachrichtigungen, Sicherheitsabschaltung und Online-Hilfen arbeiten Sie im Routinebetrieb sicher und zuverlässig. Wartungsaufwand und -kosten sind minimal.

So einfach wie ABCNeben weiteren leistungsstarken Optimierungs-, Auswer-te- und Nachberechnungsroutinen überzeugt der neuartige ABC-Algorithmus durch die Qualität seiner vollautomatischen Basislinienanbindung an das gesamte Spektrum. Zeitaufwen-dige Sichtung, Bewertung und Kontrolle der Basislinie jeder Emissionslinie sind nicht mehr nötig, wodurch sich die Prä-zision, Methodenrobustheit und Nachweisgrenzen erheblich verbessern. Der ABC macht Ihre Analytik effizienter und so einfach wie ABC!

Software LösungenAnalysensoftware sollte für alles und jeden gemacht sein. Komplexen Anforde-rungen in unterschiedlichsten Anwendungsbereichen gerecht werden, und da-bei vor allem eines sein, einfach und schnell zu bedienen. Nicht zu vergessen die Normkonformität.

Die vollautomatisierte Anbindung der Basislinie durch den ABC ist ein Meilenstein in Bezug auf Praktikabilität der ICP-OES.

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TOPwave®System für den mikrowellenunterstützten Druckaufschluss von Proben mit berührungs-loser Temperatur- und Druckmessung in allen Probengefäßen.

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Das leistungsfähige CSI-Software-Tool setzt einen neuen Standard in der Korrektur spektraler Interferenzen.

Einfach mehr DetailsEntwickelt speziell für die Analytik von Materialien mit ho-hem Linienreichtum und einer Vielzahl an Interferenzen, er-möglich das CSI-Software-Tool die Korrektur selbst komple-xester spektraler Überlagerungen in schwierigen Matrices.

CSI subtrahiert ein oder mehrere Korrekturspektren mittels eines patentierten Least-Square-Algorithmus entweder während der Messung oder in einem Nachberechnungsschritt. CSI ist das leistungsstärkste Verfahren zur Korrektur spektraler Interferenzen. Es ist einfach zu bedienen und erhöht Präzisi-on, Methodenrobustheit, Nachweisgrenzen sowie letztlich die Produktivität Ihrer Analytik.

Optische Spektrometrie

Analytik Jena – der Technologieführer in der Spektrometrie

novAA®-SerieKlassische Line-Source-AAS mit dualer Optik und Deuterium-Untergrundkorrektur.

contrAA®-SerieHigh-Resolution Continuum Source AAS mit simultaner Untergrundkorrektur für schnelle, sequenzielle und simultane Multi- elementanalyse.

PlasmaQuant® MS-SerieBench-top ICP-MS mit patentierter Ionenoptik für unerreichte Empfindlichkeit und robustem Plasma mit halbem Argon-Verbrauch.

ZEEnit®-SerieLine-Source AAS mit Deuterium- und Zeeman-Untergrundkorrektur sowie Magnetfeldsteuerung der dritten Generation.

PlasmaQuant® PQ 9000-SerieHigh-Resolution Array ICP-OES mit Dual View PLUS-Beobachtung eines vertikalen Plasmas für einzigartige Robustheit und Empfindlichkeit.

Massenspektrometrie

Probenvorbereitung

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Hauptsitz

Analytik Jena AGKonrad-Zuse-Str. 107745 Jena ⋅ Deutschland

Tel +49 3641 77 70Fax +49 3641 77 [email protected] de

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