東北大学西澤潤一記念研究センター

本館研究棟

本館事務棟

本館機械棟

2号館

長谷記念館

延床面積：8,976m2

仙台MEMSショールーム

近代技術史博物館

財団法人半導体研究振興会（半導体研究所）が2008年3月末に解散し、資産が東北大学に寄付。

2010.4 試作コインランドリ（半導体・MEMS開発のための装置開放）開始 (約1,000m2)2012.5 仙台MEMSショールームオープン

2012.6 文部科学省ナノテクプラットフォーム事業開始

2013.1 近代技術史博物館オープン

試作コインランドリ

試作コインランドリ：2階クリーンルームの装置レイアウト

1,800 m2

2008年までパワートランジスタの4インチ製造ラインとして利用されてきたエリア

2008年に大学が引継いだ装置

新規導入した装置

企業等から寄附いただいた装置

学内から移設した装置

クラス1～1,000

1F-CR熱電子SEMX線CTスキャナ

断面FE-SEMEB描画装置TOF-SIMS

各種ドラフトパターンジェネレータ20mm角用スパッタオゾンアッシング装置

3F-C

R

めっき装置Q-mass超臨界乾燥装置超音波顕微鏡KOHウェットエッチング

ウェハダイシング装置

サンドブラスト装置

2号館1F

2Fクリーンルーム以外の装置

洗浄、乾燥

酸ドラフト

~6”有機ドラフト

~6”ブラシスクラバ

~6”スピン乾燥機

4”, 6”フッ酸／硝酸／硫酸／塩酸等 有機洗浄／レジスト剥離 全協化成

研磨後のウェハ洗浄用

SEMITOOL PSC101 等3台カセット式

スピン乾燥機~6”

CO2超臨界乾燥機

~6”イナートオーブン

~6”真空オーブン

~6”

東邦化成 ZAA-4 2台平置き式

SCFluids CPD1100 ヤマト科学 DN63H ヤマト科学 DP-31

フォトリソグラフィ

パターンジェネレータ

~6”レーザ描画装置

~9”スピンコータ

~6”スピンコータ

~6”日本精工 TZ-310

エマルジョン／Crマスク作製

~1μm

ハイデルベルグインスツルメンツ

DWL2000CE ~0.6 µm

ミカサ 1H-DXII 2台 アクテス ASC-4000 2台

コータデベロッパ

~4”ホットプレート

~6”クリーンオーブン

~6”ポリイミドキュア炉

~6”キヤノン CDS-630

ポジ用

4台 ヤマト科学 DE62 2台 ヤマト科学 DN43H

ステッパ

4”, 6”両面アライナ

~6”片面アライナ

4”EB描画装置

~3”キヤノン FPA1550M4W

g線、~0.6µmSuss MA6/BA6 2台 キヤノン PLA-501-FA Raith 50

30nm

現像ドラフト

~6”UVキュア装置

~4”スプレー現像装置

~6”EB描画装置

~6”ウシオ電機 ユニハード

UMA-802アクテス ADE-3000S真空／メカチャック

エリオニクス ELS-G125SMax130keV, ~4nm

フォトリソグラフィ

酸化・拡散、イオン注入、熱処理

酸化・拡散炉

~6”中電流イオン注入装置

~4”高電流イオン注入装置

~6”ランプアニール装置

~6”TEL XL-7

P形用、N形用それぞれ1台日新イオン機器 NH-20SR

200keV、0.6mA住友イートンノバ NV-10

80keV、6mAAG Associates AG4100

1000℃

メタル拡散炉

~4”光洋リンドバーグ Model270メタル等、多用途の酸化拡散

成膜（CVD、スパッタ、蒸着他）

LP-CVD~6”

熱CVD~6”

PE-CVD~8”

PE-CVD~8”

システムサービス

SiN、Poly-Si、NSG国際電気

Epi-Poly Poly-Si、1100℃住友精密 MPX-CVD

SiN（応力制御可）、SiO2

住友精密 MPX-CVDTEOS SiO2

PE-CVD~6”

スパッタ装置

~6”スパッタ装置

~8”スパッタ装置

~8”日本生産技術 VDS-5600

SiN、SiO2

アネルバ SPF-7308インチターゲット×3

Al、AlSi

芝浦メカトロニクス CFS-4ESII

3インチターゲット×3基板加熱形1台、基板冷却形1台

芝浦メカトロニクス !-Miller3インチターゲット×4、基板加熱形

ロードロック、自動搬送付（10枚まで）

成膜（CVD、スパッタ、蒸着他）

W-CVD4”

電子ビーム蒸着装置

~6”ゾルゲル自動成膜装置

~4”MOCVD

~8”アプライドマテリアルズ

Precision 5000アネルバ EVC-1501 テクノファイン PZ-604 ワコム研究所

PZT

エッチング

Si Deep-RIE 4台~8”

ドライエッチング装置

~6”ドライエッチング装置

4”Al RIE

4”住友精密 MUC-21

SF6、C4F8

アネルバ DEA-506 CF4、CHF3 （SiN、SiO2用）

アネルバ L-507DLSF6 （Si用）

芝浦エレテック HIRRIE-100Cl2、BCｌ3

多用途RIE~6”

ECRエッチング装置

3”アッシング装置

~6”イオンミリング装置

6” x 3枚、4” x 6枚アルバック RIH-1515Z

Cl2、BCl3、SF6、CF4、CHF3、Ar、O2、N2

アネルバ ECR6001Cl2

ブランソン IPC400013.56MHz、600W

エヌ・エス／伯東

20IBE-C

研磨、接合、パッケージング、インプリント、その他

ウェハ研磨装置

~6”ウェハ研磨装置

~4”ウェハ接合装置

~6”ダイサ

~6”BNテクノロジー Bni62 BNテクノロジー Bni52 Suss SB6e ディスコDAD522、DAD2H/6T

東京精密

ワイヤボンダ小片

コンベア炉

~4”レーザマーカ

~4”サンドブラスト

~6”West Bond ほか

Al／Au超音波、Al／Au熱圧着

神港精機 FB-260H/TE GSIルモニクス WM-II 新東工業

研磨、接合、パッケージング、インプリント、その他

ウェハアライナ

8”ウェハ接合装置

8”ウェハ間樹脂封入装置

8”UVインプリント

~4”EVG Smart View EVG 520 EVG 520 東芝機械 ST50

熱インプリント

~50mm角

エキシマ有機物洗浄装置

~4”めっき装置

~6”

オリジン電気 Reprina-T50AMAX 650℃、30kN

デアネヒステ EXC-1201-DN 山本鍍金試験器

Au、Ni、Cu、Sn

測定

ウェハゴミ検査装置

~6”膜厚測定装置

~6”段差測定装置

~6”段差測定装置

~6”トプコン WM-3 Nanometric

NanoSpec 3000Dektak8 Tenchor AlphaStep 500

深さ測定装置

~6”4探針測定装置

~6”拡がり抵抗測定装置

小片

ウェハプローバ

4”ユニオン光学 Hisomet Solid State Measurements

SSM150東京精密 EM-20A

測定

レーザ／白色光 共焦点

顕微鏡（表面形状測定）

~6”

デジタル顕微鏡

~8”電子顕微鏡

~12”電子顕微鏡

小片

レーザーテック

OPTELICS HYBRID L3-SDキーエンス、

クノーテクノクラフト

日立 S3700N熱電子SEM、EDX付属

日立 S5000インレンズ式FE-SEM

マイクロX線CT~6”

超音波顕微鏡

~12”赤外線顕微鏡

~6”TOF-SIMS

小片

コムスキャンテクノ

ScanXmate D160TS110インサイト IS350 オリンパス、浜松ホトニクス CAMECA TOF-SIMS IV

測定

エリプソ

~6”エリプソ

~6”AFM~8”

フォトニックラティス SE-101 ULVAC Digital InstrumentsDimension3100