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X線CCD素子のプロトン照射実験

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X線CCD素子のプロトン照射実験. 鎌塚 友幸. 2002 年 2月7日. X線CCDの放射線損傷 プロトン照射実験 損傷のプロトンエネルギー依存性 放射線耐性を高めたCCDの評価 照射後CCDの回復法. 我々の研究室では、衛星搭載用X線CCDの  研究開発を行っている。. CCDの構造 MOS構造の半導体検出器 画素を2次元に配列した構造. 画素数:1024 × 1024 画素サイズ:24 μ m. X線が入射し、各画素で発生した  信号電荷を順次転送し読み出すことによって撮像を行う。. CCDの画素. 転送方向. CCDの電荷転送(模式図). - PowerPoint PPT Presentation

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Page 1: X線CCD素子のプロトン照射実験

X線CCD素子のプロトン照射実験

•X線CCDの放射線損傷•プロトン照射実験–損傷のプロトンエネルギー依存性–放射線耐性を高めたCCDの評価

•照射後CCDの回復法

2002 年 2月7日

鎌塚 友幸

Page 2: X線CCD素子のプロトン照射実験

我々の研究室では、衛星搭載用X線CCDの  研究開発を行っている。

CCDの構造

MOS構造の半導体検出器

画素を2次元に配列した構造

画素数:1024 ×1024

画素サイズ:24 μm

X線が入射し、各画素で発生した  信号電荷を順次転送し読み出すことによって撮像を行う。

Page 3: X線CCD素子のプロトン照射実験

転送方向CCDの画素

X線光子

CCDの電荷転送(模式図)

Page 4: X線CCD素子のプロトン照射実験

電子

荷電子帯

伝導帯

放射線と半導体との相互作用

バンドギャップにエネルギー準位(トラップ)を生成

電荷転送効率の劣化

エネルギー分解能の劣化

宇宙には様々な放射線が存在する

バルク損傷(格子欠陥の生成)

トラップ1.15eV

Page 5: X線CCD素子のプロトン照射実験

トラップがある時の電荷転送トラップ

Page 6: X線CCD素子のプロトン照射実験

放射線照射前後のCCDの性能CTI(電荷転送非効率)=電荷を一画素転送する毎に失う電荷の割合 照射前

CCDの性能評価には55FeからのX線(5 .9keV,6 .4keV)を使用

放射線照射後は、転送回数が増えるに伴い信号波高値が低くなっている

0 250 500転送回数

5 6エネルギー(ke

V)

MnK α (5 .9keV)

MnK β (6 .4keV)

7CTI=1 .7 ×

10-60 250 500転送回数 エネルギー(ke

V)

5 6 7

CTI=1 .1 ×10-4

照射後

エネルギー(keV)

5 76

照射前

Page 7: X線CCD素子のプロトン照射実験

プロトン照射実験

• 電荷転送効率劣化のプロトンエネルギー 依存性– 171keV,292keV,391keV,522ke

V,2 . 0MeV,3 . 9MeVの6種を照射

• 放射線耐性を高めたCCDの評価

プロトン照射には、大阪大学理学部のバンデグラフ型加速器を使用した。

宇宙空間でのCCDの放射線耐性を調べるため   プロトン照射を行い、以下の項目について測定した

衛星に搭載されたCCDの放射線損傷には    プロトンが大きく寄与している事が知られている

Page 8: X線CCD素子のプロトン照射実験

転送効率劣化のプロトンエネルギー依存性

•171keVは劣化への寄与は 小さい。

•292keVにエネルギーが上がると、CTIが一桁以上増加する。391keVでも同程度の増加である。

•522keVまでエネルギーを上げると、CTIが有意に低くなっている。

•2 . 0MeV,3 . 9MeVは、劣化への寄与は小さい

300~400keVのプロトンが      転送効率を最も劣化させる。

CT

Page 9: X線CCD素子のプロトン照射実験

照射量によるCCD性能の変化

CTI増加への寄与が 最も大きい292keVのプロトン照射時の変化

照射量が増すに伴い  エネルギー分解能が

  劣化する

照射前 1.0 ×107 p /cm2

1.1 ×108 p /cm2

3.3 ×107 p /cm2

0 250 500転送回数

250 5000転送回数

0 250 500転送回数

0 250 500転送回数

エネルギー(keV)

753

ΔE=294eV

エネルギー(keV)

753

ΔE=1480eV

753エネルギー(k

eV)

ΔE=146eV

53エネルギー(k

eV)

ΔE=778eV

Page 10: X線CCD素子のプロトン照射実験

プロトンのエネルギー損失の          シミュレーション

Si中でのプロトンのブラッグ曲線

CCD表面から深さ2~4 μmでのエネルギー損失が大きい

300~400keVのプロトンが転送効率劣化に大きく寄与

電荷転送経路での損傷が転送効率劣化に最も寄与

Page 11: X線CCD素子のプロトン照射実験

放射線耐性を高めたCCD

•ノッチありCCD画素の一部に電荷転送経路を制限し、転送電荷がトラップに 捕獲される確率をへらしたCCD

トラップ

ノッチ無し

ノッチあり

信号電荷 

電荷転送効率の劣化を抑える効果が期待できる

1画素

Page 12: X線CCD素子のプロトン照射実験

ノッチの有無の比較

CTIが~10-4以上になると有意にノッチの効果が発揮される

292keVプロトンを照射

黒:ノッチなし

赤:ノッチあり

Page 13: X線CCD素子のプロトン照射実験

性能回復法

100ライン

100ライン

縦転送

横転送

電荷注入時のCCDのイメージ•アニーリング

•電荷注入

注入電荷でトラップを埋める。

電荷転送効率の回復が期待できる。

Page 14: X線CCD素子のプロトン照射実験

電荷注入有無の比較

電荷注入によりCTIが半減する

391keVプロトンを照射•黒:電荷注入な

•赤:電荷注入あり

Page 15: X線CCD素子のプロトン照射実験

電荷注入の効果

CTI ΔE(@5 . 9keV )

照射前 1 . 7 ×10-6 149keV照射後 5 . 7 ×10-4 1461keV

電荷注入 6 . 7 ×10-5 364keV

電荷注入あり

75エネルギー(ke

V)

照射後

3 5 7エネルギー(ke

V)

照射前

3 5 7エネルギー(ke

V)

Page 16: X線CCD素子のプロトン照射実験

まとめ• 各種プロトン照射に対するCCDの評価

– 300~400keVのプロトンが転送効率を大きく劣化 させた。

– 電荷転送経路(CCDの表面下2~4 μm)での   損傷が転送効率の劣化に寄与する事が判った。

• 放射線耐性を高めたCCDの評価– ノッチありCCDにおいてCTIが1 ×10-4以上

では 転送効率の劣化を軽減する効果を確認した。• 性能回復方法の確立

– 電荷注入法により転送効率を一桁回復させた。– 5 . 9keVのX線に対するエネルギー分解能で、 

   1460eVから360eVまで回復させた。

Page 17: X線CCD素子のプロトン照射実験

トラップを埋めた時の電荷転送注入電荷

信号電荷