●仕様および外観は改良のため予告なく変更されることがありますのでご了承下さい。製品カラーは、撮影・印刷インキの関係で実際の色と異なって見えることがあります。

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3.表面観察装置分析・計測・試験機器

歩留まり管理統合ソフトウェア　Klarity Defect歩留まりの低下を早期に発見し、データを解析、レポートを行い、歩留まり低下につながる欠陥発生のメカニズムを抽出・特定し、継続的な欠陥削減プログラムを確立するのに役立つデータの統合化を実現します。

プロセスパラメータ管理ソリューション正確かつ高速の薄膜測定とプロファイリングは、各種プロセスを管理し、ウエアファブの生産性向上に欠かせない技術です。

RS-2004探針シート抵抗測定装置

SpectraFx200高性能光学式薄膜計測

Quantox XPインライン非接触電気特性監視

半導体製造検査装置

ケーエルエー・テンコール製品半導体製造検査装置

レチクル露光

歩留まり解析

ウエーハ製造

レチクル現象／エッチング／洗浄

イオン注入

酸化／成膜

CMP

露光／現像

レジスト塗布

レチクル出荷

レチクル

エッチング／洗浄

プローバ検査

ウエーハソート

半導体業界標準の KLA-Tencor 製品が、生産性向上のための最高 レベルのトータルソリューションを提供いたします。

先端リソグラフィー工程制御ソリューション最高のレチクル品質を得るためには、マスクメーカーで完全な検査と分析、ウエーハファブでは露光プロセスでの品質保証と品質管理が必要不可欠です。

Spectra CD200インライン分光CD計測

Viper2430自動マクロ検査装置

Archer300重ね合わせ検査装置

Tera Starマスク異物検査装置

Tera Scanマスク欠陥検査装置

P-17/P-7/D-500/D-600表面形状測定装置

インテリジェント・ラインモニタウエーハ製造からデバイス プロセス歩留まり管理まで、トータルソリューションを提供します。

SP2XPモニタウエーハ異物検査装置

9550パターン付ウエーハ異物検査装置

2830パターン付ウエーハ欠陥検査装置

iADC自動欠陥分類システム

eDR5210欠陥レビューSEM

eS37高分解能ウエーハ欠陥検査装置

Klarity ACE XP高性能相関解析エンジン

Klarity Defect欠陥データ管理ソフトウェア

Klarity Family欠陥解析／ビット解析

自動Decision Flow Analysisレシピは、複雑な条件付きエンジニアリング解析手法を簡単な解析フローチャート内に取り込みます。

ビットマップ解析ソフトウェアBit Powerにより、ビットマップデータは量産テスト時に収集され、不良ビットパターンを自動的に抽出できます。