・このカタログは2020年5月現在のものです。仕様と製品は、製造者側がなんら債務を被ることなく予告なしに変更されます。・このカタログに掲載の会社名および商品名は各社の商標または登録商標です。©2020 NIKON CORPORATION

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Performance and equipment are subject to change without any notice or obligation on the part of the manufacturer.Products and brand names are trademarks or registered trademarks of their respective companies. May 2020©2020 NIKON CORPORATION

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NIKON CORPORATIONFPD Lithography Business UnitSales DepartmentShinagawa Intercity Tower C, 2-15-3, Konan, Minato-ku, Tokyo 108-6290, JapanTel: +81-3-6433-3641 Fax: +81-3-6433-3758

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NIKON PRECISION TAIWAN LTD.3F No. 28, Tai Yuen Street, Chu Pei City, Hsin Chu Hsien, TaiwanTel: +886-3-552-5888 Fax: +886-3-552-5858

NIKON SINGAPORE PTE LTD.Precision Division60 Anson Road, #09-01 Mapletree Anson, Singapore 079914Tel: +65-6559-3618 Fax: +65-6559-3665

NIKON PRECISION SHANGHAI CO., LTD.RM. 601 Xin Jin Qiao Tower, No. 28 Xin Jin Qiao Road, Pudong New District, Shanghai 201206, ChinaTel: +86-21-5899-0266 Fax: +86-21-5899-1660

レーザ光ビームをのぞきこまないこと

Max. 1mW CW He-Ne 633nm

クラス2　レーザ製品

http://www.nikon.co.jp/pec

FPD装置事業部 営業部　108-6290　東京都港区港南2-15-3 品川インターシティ C棟　電話（03）6433-3641

株式会社ニコンテック　140-0012　東京都品川区勝島 1-5-21 東神ビル　電話（03）5762-8911

Printed in Japan 4CEJ-SUQH-10 (2005-00)T

第6世代プレートサイズ対応 高生産性を実現した3 μm解像度FPD露光装置第6世代のプレートによる中小型パネルの生産に対応したFPD露光装置です。高い生産性と安定した露光性能で、3 μm（L/S）以下の解像度に よる中小型パネルの量産を実現します。

特長

マルチレンズシステムを搭載

高スループット

高解像度3.0μm（L/S）の高解像度を達成。

高い重ね合わせ精度多点同時アライメントと高精度ステージにより、重ね合わせ精度を向上。

露光性能の向上独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、 総合的により安定した露光性能を実現。

Gen 6 Plate FPD Lithography System Delivering a Resolution of 3 μm with High ProductivityThe FX-66S2 supports the production of small- and medium-sized panels from Gen 6 plates. With its high productivity and stable exposure performance, the FX-66S2 enables the high volume production of small- and medium-sized panels with a resolution of 3 μm or less (L/S).

Key Features

Multi-lens System

High Throughput

High ResolutionThe FX-66S2 achieves a high resolution of 3.0 μm (L/S).

High Overlay AccuracyOverlay accuracy is improved using simultaneous multi-point alignment with the ultraprecise stage.

Improved Exposure PerformanceThe FX-66S2 employs a variety of calibration functions developed utilizing our unique technology and provides enhanced exposure performance stability.

PerformanceFX-66S2

Resolution (L/S) 解像度（L/S） 3.0 μm (g+h+i-line)

Projection magnification 投影倍率 1:1

Overlay 重ね合わせ精度 ≦ ±0.6 μm

Maximum plate size 最大プレートサイズ 1,500 mm 1,850 mm

Takt time タクトタイム 53 sec./plateConditions: 1,500 mm 1,850 mm, 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2

FX-66S2

100-8331 東京都千代田区丸の内3-2-3 富士ビル

www.nikon.co.jp/

100-8331 東京都千代田区有楽町1-12-1 （新有楽町ビル）

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www.nikon.com/

Fuji Bldg., 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, Japan

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http://www.nikonusa.com/

1300 Walt Whitman Road, Melville, N.Y. 11747-3064, U.S.A.phone: +1-631-547-8500; +1-800-52-NIKON (within the U.S.A. only)fax: +1-631-547-0306

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FPD露光装置総合

FPD Lithography Systems

2019-2020

第8世代プレートサイズ対応大型パネルの生産に最適なFPD露光装置高精細パネルの生産に適したFX-67Sと、超大型プレートサイズに対応した当社第10世代装置の技術を融合し、高精細大型パネルの生産に対応。既存の第8世代装置に比べて、タクトタイムを短縮しました。FX-86SH2では、 2.2μmの高解像度も実現しています。

特長

マルチレンズシステムを搭載

高スループット2,200 mm × 2,500 mm プレートサイズの場合：

毎時587枚（46インチパネル）毎時378枚（55インチパネル）

高解像度FX-86SH2では、2.2μm（L/S）の高解像度を達成。

高い重ね合わせ精度干渉計による位置計測システムを新たに最適設計したことにより計測安定性が向上し、±0.5μmの高い重ね合わせ精度を実現。

露光性能の向上独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、 総合的により安定した露光性能を実現。

第6世代プレートサイズ対応 2 μmの高解像度を達成したFPD露光装置第6世代プレートによる中小型パネルの生産に対応。スキャナー方式により、生産性向上と高解像度、高い重ね合わせ精度を同時に実現しました。

特長

マルチレンズシステムを搭載

高スループット

高解像度2.0μm（L/S）の高解像度を達成。

高い重ね合わせ精度多点同時アライメントと高精度ステージにより、重ね合わせ精度を向上。

露光性能の向上独自技術により開発したさまざまなキャリブレーション機能を適用し、 総合的により安定した露光性能を実現。

第6世代プレートサイズ対応 1.5 μmの高解像度を達成したFPD露光装置第6世代プレートによる最先端高精細中小型パネルの生産に対応。スキャナー方式により、生産性向上と高解像度、高い重ね合わせ精度を同時に実現しました。

特長

マルチレンズシステムを搭載

高解像度高解像度化のためにi線の投影レンズを新規開発。さらにプレート面の傾斜とその変化に対して焦点面を最適に追従させる画期的な補正システムを開発搭載。これらにより第6世代プレートで1.5μm（L/S）の高解像度での量産を実現。

高い重ね合わせ精度位置計測の干渉計システムを新規設計し、計測精度と位置制御性能を上げることにより高い重ね合わせ精度を実現。

高スループット新開発の投影レンズとステージにより、第6世代プレートで4スキャンを 可能とし、高スループット（毎時78プレート）を実現。

露光性能の向上

第10.5世代プレートサイズ対応 高精細大型パネルの生産に最適なFPD露光装置中小型高精細パネルの生産に適したFX-67S2と、テレビ用パネルの生産に適したFX-86SH2の技術を融合し、高精細大型パネルの生産に対応。従来の 当社第10世代装置 に 比 べ て、高 タ ク ト タ イ ム を 達成 し ま し た。FX-103SHでは、2.2μmの高解像度も実現しています。

特長

高タクトタイム従来機の露光シーケンス、キャリブレーションシーケンスを刷新。さらに高速かつ高精度な露光を実現。

高解像度FX-103SHは、FX-86SH2で開発した独自の解像度向上技術を適用した照明系とマルチレンズシステムを新たに最適化。マスクたわみやプレート平面度などの誤差を最適に補正するオートフォーカスシステムも新搭載。2.2μm（L/S）の高解像度と広い実用焦点深度を同時に達成。

高い重ね合わせ精度新設計の位置計測システムで、±0.5μmの高い重ね合わせ精度を実現。

高スループットスループットを大幅に向上。65インチパネルで毎時480枚（従来機から77％増）を、75インチパネルで毎時322枚をそれぞれ達成。

Gen 6 Plate FPD Lithography System Delivering a High Resolution of 1.5 μm The FX-68S supports the production of leading edge high-resolution small- and medium-sized panels from Gen 6 plates. The scanner method enables improved productivity, excellent resolution and high overlay accuracy.

Key Features

Multi-lens System

High ResolutionIn order to achieve higher resolution, we developed a new i-line projection lens and an innovative correction system that takes advantage of our multi-lens system in large plate exposure. In this correction system, the focal surface follows inclination changes in a plate. This enables the high volume production of panels with a high resolution of 1.5 μm (L/S) in Gen 6 plates.

High Overlay AccuracyThe new interferometer system for position measurement is designed to realize high overlay accuracy by enhancing measurement accuracy and position control performance.

High ThroughputWith the new projection lens and stage, the FX-68S achieves high throughput of 78 plates per hour by enabling 4-scan on a Gen 6 plate.

Improved Exposure Performance

Gen 10.5 Plate FPD Lithography Systems for High-definition Panel Production By incorporating techniques from both the FX-67S2, which is ideal for the production of small and medium-sized, high-definition panels, and the FX-86SH2, which excels in the production of TV panels, the FX-103SH/103S is optimized for manufacturing high-definition, large-sized panels and achieves a shorter takt time than our conventional Gen 10 lithography system. The FX-103SH enables a high resolution of 2.2 μm.

Key Features

Short Takt TimeIncorporating the renewed exposure sequence and calibration sequence of the conventional model, the FX-103SH/103S realizes faster and higher accuracy exposure.

High ResolutionThe FX-103SH has fully enhanced illumination and multi-lens systems, both of which use Nikon’s proprietary resolution enhancement technique, originally developed for the FX-86SH2. It also incorporates a new auto-focus system that optimally corrects the measurement errors of mask bending and plate flatness. This enables a high resolution of 2.2 μm (L/S) and a wide depth of focus.

High Overlay AccuracyThe new position measuring system achieves a high overlay accuracy of ±0.5 μm.

High ThroughputThe FX-103SH/103S achieves the high throughput of 480 plates per hour for 65-inch panels, and 322 plates per hour for 75-inch panels.

Gen 8 Plate FPD Lithography Systems for Large Panel ProductionThe FX-86SH2/86S2 incorporates techniques from both the FX-67S, which is ideal for high-definition panel production, and our Gen 10 lithography system, which supports ultra-large plates, enabling high-definition large panel production. The FX-86SH2/86S2 achieves reduced takt time compared with previous Gen 8 lithography systems. The FX-86SH2 also enables a high resolution of 2.2 μm.

Key Features

Multi-lens System

High Throughput2,200 mm × 2,500 mm plate size: 587 panels/hr (46-inch panels)

378 panels/hr (55-inch panels)

High ResolutionThe FX-86SH2 achieves a high resolution of 2.2 μm (L/S).

High Overlay AccuracyThe optimally designed measurement system, which incorporates an interferometer, has led to improved measurement stability and a high overlay accuracy of ±0.5 μm.

Improved Exposure PerformanceThe FX-86SH2/86S2 employs a variety of calibration functions developed utilizing our unique technology and provides enhanced exposure performance stability.

Gen 6 Plate FPD Lithography System Delivering a High Resolution of 2 μmThe FX-67S2 supports the production of small- and medium-sized panels from Gen 6 plates. The scanner method enables improved productivity, excellent resolution and high overlay accuracy.

Key Features

Multi-lens System

High Throughput

High ResolutionThe FX-67S2 achieves a high resolution of 2.0 μm (L/S).

High Overlay AccuracyOverlay accuracy is improved using simultaneous multi-point alignment with the ultraprecise stage.

Improved Exposure PerformanceThe FX-67S2 employs a variety of calibration functions developed utilizing our unique technology and provides enhanced exposure performance stability.

PerformanceFX-67S2

Resolution (L/S) 解像度（L/S） 2.0 μm (g+h+i-line)

Projection magnification 投影倍率 1:1

Overlay 重ね合わせ精度 ≦ ±0.5 μm

Maximum plate size 最大プレートサイズ 1,500 mm 1,850 mm

Takt time タクトタイム 57 sec./plateConditions: 1,500 mm 1,850 mm, 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2

PerformanceFX-86SH2 FX-86S2

Resolution (L/S) 解像度（L/S） 2.2 μm (g+h+i-line) 3.0 μm (g+h+i-line)

Projection magnification 投影倍率 1:1

Overlay 重ね合わせ精度 ≦ ±0.5 μm

Maximum plate size 最大プレートサイズ 2,200 mm 2,500 mm

Takt time タクトタイム 49 sec./plateConditions: 2,200 mm 2,500 mm, 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2

FX-86SH2/86S2 FX-67S2

FX-68SFX-103SH/103S

PerformanceFX-68S

Resolution (L/S) 解像度（L/S） 1.5 µm (i-line)

Projection magnification 投影倍率 1:1

Overlay 重ね合わせ精度 ≦ ±0.35 µm

Maximum plate size 最大プレートサイズ 1,500 mm 1,850 mm

Takt time タクトタイム 46 sec./plate Conditions: 1,500 mm 1,850 mm, 4 scans, 30 mJ/cm2

PerformanceFX-103SH FX-103S

Resolution (L/S) 解像度（L/S） 2.2 µm (g+h+i-line) 3.0 µm (g+h+i-line）Projection magnification 投影倍率 1:1Overlay 重ね合わせ精度 ≦ ±0.5 µmPlate size プレートサイズ 3,370 mm × 2,940 mm

Takt time タクトタイム 60 sec./plate Conditions: 3,370 mm × 2,940 mm, 4 scans, g+h+i-line, 30 mJ/cm2