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Roll to Roll Equipment Application
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* all figures based by ULVAC calculation
Applications for Web Coating Technology
SPW Series
巻取式スパッタ装置
特型抵抗加熱方式
EWK Series
巻取式蒸着装置
抵抗加熱方式
EWE Series誘導加熱方式
EWA SeriesE/B 加熱方式
EWJ Series
食品包装フィルム用金属バリア膜
金属配線フレキシブル配線
車載 平滑回路用フィルムキャパシタ
フレキシブルディスプレイ
5G通信/伝送用電磁波シールド膜
食品・薬品包材用透明バリア膜
光学フィルム(AR:反射防止膜)
装飾品金銀糸
風力・太陽光発電用フィルムキャパシタ
偏光板ワイヤーグリッド
リチウム2次電池リチウムキャパシタ
負極材料
導電性フィルムタッチパネル
スタンプラベル
ウィンドウフィルム自動車・他
民生品用フィルムキャパシタ
アクチュエーターセンサー
磁気テープストレージ
Vacuum roll to roll systemULVAC offers a wide range of roll coater system with a proven track record.
EWE-060
抵抗加熱式 巻取蒸着装置
EWE Series (フィルムキャパシタ専用)
(EWE-060/ EWE-080/ EWE-110)
原反幅 : 最大1050mm蒸発源 : 抵抗加熱方式
<特長>- 極薄フィルムへの高速成膜を実現
: 蒸着速度 600m/min (OPP 2.0μm)蒸着速度 750m/min (OPP 2.3μm)
-高速パターン(自己保安機能膜)成膜を実現: パターン精度 < 0.2 ± 0.05mm
(蒸着速度 750m/min)
SPW-165C1
巻取スパッタ装置
SPW Series(SPW-030/ SPW-060/ SPW-165Cn)
原反幅 : 最大1600mmカソードタイプ : プレーナー / ロータリー
(マグネトロンカソード )スパッタ電源 : DC/ Pulse DC/ MF
<特徴>- 作動排気ポンプによる高いガス分離特性を実現
: カソード間 <1%- モジュールチャンバー方式によるプロセス拡張性(SPW-060/ SPW-165)
- ロードロック室採用による高い生産性を実現(SPW-060/ SPW-165)
EWA-250
誘導加熱式 巻取蒸着装置
EWA Series(EWA-110/ EWA-165/ EWA-210/ EWA-250)
原反幅 : 最大2500mm蒸発源 : 誘導加熱方式
<特長>- 誘導加熱方式による低ピンポール特性- 透明バリア膜 (AlOx, SiOx) の成膜が可能
EWK-030抵抗加熱式 巻取蒸着装置
EWK Series (LiB/LiC専用)(EWK-030 / EWK-060)
原反幅 : 最大600mm蒸発源: Resistance Heating タイプ
<特長>- リチウム金属膜の超高速成膜を実現
: 20μm・m/min- 独自のパシベーション化処理によりリチウム金属膜
成膜面の保護が可能
EWJ-060 E/B加熱式 巻取蒸着装置
EWJ Series(EWJ-020/EWJ-060/EWJ-110/EWJ-165/EWJ-210)
原反幅 : 最大2100mm蒸発源 : E/B 加熱方式<特長>- 金属膜の高速成膜を実現 : Cu 12μm・m/min- 高融点金属, 昇華性材料の成膜が可能
Cu, AL, Ni, Ti, AlOx, SiOx, MgO, etc…
TWH-060
巻取脱ガス装置
TWH Series(TWH-060/ TWH-110/ TWH-165/ TWH-210)熱源 : IR式平板ヒーター, ランプヒーター, ホットローラー原反幅 : 最大2100mm
<特長>- 真空環境下でのフィルム搬送加熱方式によるクリーンかつ
効果的な脱ガスを実現- 目的により様々な脱ガス方式を選択可能.
Selection Guide ~ Vacuum roll to roll system
Material
Li ITO NbOx SiOx AlOxCuNi
NiCrCu Ni Cr Ag
アプ
リケ
ーシ
ョン
タッチパネル (TCO) ● ● ● ●
タッチパネル (メタルメッシュ) ● ● ●
光学フィルム (IM, AR) ● ● ●
フレキシブルセンサー ● ● ● ●
金属配線・接点 ● ● ● ●
FCCL, COF ● ●
電磁波シールド ● ●
偏光板, ワイヤーグリッド ●
2次電池 ● ● ●
フィルムキャパシタ
ウィンドゥフィルム ●
反射板、交通標識 ●
金属バリア,包材 ●
透明バリア ● ●
転写箔, スタンプ ●
ホログラム ●
成膜
源
誘導加熱蒸着 ● ● ● ● ● ●
抵抗加熱蒸着 ●
EB蒸着 ● ● ● ● ● ●
スパッタリング ● ● ● ● ● ● ● ●
脱ガス・乾燥 ● ● ● ● ● ●
装置
Au Al Zn ZnSIn
SnZrOx
H.M.M
Ox,Ny
スパッタ 蒸着 脱ガス
SPW EWA EWE EWJ EWK TWH
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*H.M.M.: High Melting-point Metal
- 研究開発用途に最適なシンプルかつ省スペース設計
- 両側開閉式のカソード保守機構採用による高メンテナンス性
- 蒸発源の追加をオプション選択可能(スパッタ・蒸着兼用機型式 : ESW-030)
Sputtering Roll coater / SPW-Series
SPW-165Cn
SPW-030
SPW-030 SPW-060 SPW-165Cn
原反幅 最大 300mm 最大 600mm 最大 1600mm
原反材料 PET,PEN,PI,PC,COP,TAK and others
原反厚み PET : 25~200 μm
原反直径 Φ300mm Φ550mm Φ900mm
巻取速度 0.5~5.0m/min 0.5~10m/min 0.5~10m/min
スパッタリングカソード
Planer Planer/Rotary Planer/Rotary
DC Single:4式AC Dual: 2式
DC Dual: 4式AC Dual: 4式
DC Dual: 4 x n 式AC Dual: 4 x n 式
スパッタ材料 ITO,Nb2O5,SiO2,Cu and Metal
メインローラー温度
-20~80℃オプション : -10~180℃
前処理(オプション)
ボンバード(DC,RF), イオンガン,ヒーター
レイアウト9mW × 9.8mL
x 2.6mH
(ロードロックタイプ)15mW x 10mL
x 3.9mH
(C1タイプ)19mW x 17mL
x 4.3mH
*本仕様は事前の通知なく変更となる場合があります。
SPWシリーズは積層成膜に特化した電子デバイス向けの巻取スパッタ装置です。
SPW-060 Load-lock type
SPW-060
SPW-165C1
SPW-030 (ESW-030)
<適合アプリケーション>- ITO フィルム- メタルメッシュ- Metal on ITO タッチセンサー- AR フィルム- FCCL- 電極材料- ウィンドゥフィルム- ワイヤーグリッド- フレキシブル部材
等々
- 電子デバイスの量産工程に適合する高性能中型機- 作動排気ポンプによる高いガス分離特性を実現
: カソード間 <1%- バッチタイプ、ロードロックタイプの2機種から選択可能
・バッチタイプ: 単一のローラーベースに搬送系を構成
安定したフィルム搬送を実現: 様々な前処理に適合可能なフィルムパス
・ロードロック タイプ: モジュールチャンバー方式によるプロセス拡張性を実現: ロードロック室採用による高い生産性を実現: 両側開閉式のメンテナンス台車採用による高いメンテナンス性を実現
- タッチパネル、光学フィルム、ウィンドゥフィルム、等の広幅フィルム量産用のハイスループット機
- 作動排気ポンプによる高いガス分離特性を実現 : カソード間 <1%- モジュールチャンバー方式によるプロセス拡張性を実現
IH Evaporation Roll coater / EWA-Series
EWA Series は、幅広フィルムの高速成膜に特化した誘導加熱方式の巻取蒸着装置です。
<特長>- 誘導加熱方式による低ピンポール特性を実現- 3300mmまでの広幅フィルムまでの対応が可能- 6軸駆動方式により安定的なフィルム搬送を実現- 透明バリア用の酸化反応性蒸着が可能 (AlOx, SiOx)- 低 O.D. 値成膜に対応
EWA-250
EWA-165 EWA-210 EWA-250
原反幅 最大.1650mm 最大.2150mm 最大.2500mm
原反材料・厚み PET : 9 - 50 μm CPP : 20 - 30 μm
原反直径 Φ1150mm
巻取速度制御範囲
100~600 m/min 100~800 m/min 100~600 m/min
蒸着材料 Al, Cu, Ag, Cr, Sn, In , ZnS, SiOx, (AlOx)
るつぼ数 11 14 16
O.D.値 (Al) 0.3 ~ 3.0
駆動モーター 6 モーター方式
成膜巻取速度 450m/min (Al O.D.値 2.2)
成膜長 36,000m (Al O.D.値 2.2)
メインローラー温度 -20 ~ 30 ℃
膜厚モニター透過率モニター (ULVAC FADAM)
オプション : EDDY カレント方式抵抗値モニター
膜厚モニター測定子数
11pts 14pts 16pts
レイアウト9.2mW x 16mL
x 4.2mH+ 2.6mD(ピット)
9.5mW x 17mLx 4.5mH
+ 4.5mD(ピット)
10mW x 21.5mLx 4.5mH
+ 4.5mD(ピット)
*本仕様は事前の通知なく変更となる場合があります。
<適合アプリケーション>食品包材等 バリアフィルム転写箔, ホログラム等 一般産業フィルム加熱調理用極薄アルミシート等 消耗品フィルム電磁波シールド膜等 電子部品用配線材料
0
20
40
60
80
100
120
140
0.5-1.01.0-1.5
1.5-2.5
Boat(RH)
Crucible (IH)
ピンポール比較( 誘導 vs 抵抗)
ピンホールサイズ (mm)
ピン
ポー
ル数
( /1
000m
2 ) 誘導加熱
抵抗加熱
EB
DC
0.2±
<0.05mm
EWE-060
OPP 2.3μm OPP 2.3μm
Back up Roll
Oil Roll
Oil Transfer Roll
Print Roll
RH Evaporation Roll coater / EWE-Series* Special use for film capacitor
EWE-060 EWE-080 EWE-110
原反幅 最大.670mm 最大.820mm 最大.1050mm
原反材料 OPP 2.0 ~ 6.0μm OPP 2.0 ~ 6.0μm OPP 2.0 ~ 6.0μm
原反直径 φ650 φ650 Φ620
巻取速度 100~1200m/min 100~1200m/min 100~1000m/min
駆動モーター 8 モーター方式
AL 蒸着用ボート数 11 13 15
成膜巻取速度750m/min
(OPP 2.3µ~ Al 10Ω/□~)
抵抗値分布10Ω/□±15%
※参考値
成膜長55,000m
(OPP 2.0µ~)
パターン精度< 0.2 ± 0.05mm
(成膜速度 750m/min, OPP 2.3µ~)
メインローラー温度 -20 ~ 20 ℃
レイアウト8.5mW x 14mL
x 4.2mH+ 2.5mD(ピット)
8.5mW x 15mLx 4.2mH
+ 2.5mD(ピット)
8.5mW x 15.5mLx 4.2mH
+ 2.5mD(ピット)
*本仕様は事前の通知なく変更となる場合があります。
EWE Seriesは、極薄フィルムへの高速パターン蒸着が可能な高性能フィルムキャパシタ専用機です。
<適合アプリケーション>フィルムキャパシター
<特徴 / ULVAC独自技術>- 極薄フィルムの高速蒸着を実現
: 蒸着速度 600m/min (OPP 2.0μm) 蒸着速度 750m/min (OPP 2.3μm)
熱ダメージによるシワ発生
EB+DCバイアスによりフィルムの熱負けを抑制
従来方式EB+DCバイアス方式極薄フィルム搬送技術
EB+DCバイアス
<特徴 / ULVAC独自技術>-高速パターン(自己保安機能膜)蒸着を実現:パターン精度 < 0.2 ± 0.05mm (蒸着速度 750m/min)
フレキソ式オイルパターンユニット
- フレキソ方式による高精細かつ高速パターニングを実現- 光学カメラによるパターンモニタリングが可能
<特徴>- 金属膜の高速成膜が可能
: Cu 12μm・m/min (最大値)- 高出力のピアス式EBガンを搭載
- EB蒸発源の前後に被膜の密着層・保護層としての異組成材料成膜用として、スパッタカソードをオプション選択可能
EWJ Seriesは、高速成膜・昇華性材料の成膜に特化したE/B加熱式の多用途型巻取蒸着装置です。
EB Evaporation Roll coater / EWJ-Series
Model EWJ-025 EWJ-060 EWJ-165 EWJ-210
原反幅 最大.250mm 最大.600mm 最大.1450mm 最大.2120mm
原反材料 PET 25~50µm PET 9~50µm PET 75~200µm PET 9~25µm
原反直径 Φ500mm Φ500mm Φ650mm Φ1200mm
蒸着材料Cu, Al, Ag, Ni, Ti, AlOx, SiOx, MgO,
other high melting point metals and sublimation materials
蒸発源100kW
EB Gun 1pc100kW
EB Gun 2pcs300kW
EB Gun 2pcs
膜厚モニター透過率モニター,
オプション: Eddy カレントモニター
主排気ポンプ 蒸着室 : 油拡散ポンプ
前処理オプション
ボンバード(DC,RF), イオンガン
スパッタリングオプション
- DC カソード DC カソード -
メインローラー温度
-20 ~ 20 ℃
レイアウト8mW × 8mL
x 3mH9.5mW x 15mL
x 4.3mH+2.5mD(ピット)
11.5mW x 7mLx 4mH
+ 3mD(ピット)
20mW x 22mLx 4.1mH
+5.4mD(ピット)
*本仕様は事前の通知なく変更となる場合があります。
UW
WD
CR
CR
Sputter Cathode Pre-process unit
EB Gun
< EWJ-060 内部構造>
基材
密着層 (スパッタ)
蒸着膜
保護層(スパッタ)
<アプリケーション事例>- 透明バリア膜 (AlOx, SiOx)- ホログラム(TiOx, SiOx, ZrOx) - 電磁波シールド膜 (Cu)- 電極材料 (Ni, Cu, AL)- フィルムキャパシタ(AL)- メタルメッシュ (Cu)
- 偏光板,ワイヤーグリッド (SiOx, AL)