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Powder
나노분말 제조 / 분산
~50 nm
RF Thermal Plasma – 경쟁사
• 세계시장 독점: • 국내 20여대, • 전세계적 100여대
• 상용화 이용 부적합• 양산용 장비/공정 기술부재 (Feeder: 100g/hr)
CPRI 혁신: 4 Kg/hr
RF Thermal Plasma – Equipment
Electrode Structure Patent
FeedingMechanism
Patent
Mass Production system(30 ton/year)
R&D system
15 nm 30 nm 20 nm
10 um 5 um 10 um
RF Thermal Plasma – Nano Powder Production
Wei
ght
%
CIGS Composite (ICP-AES)
XRD patterns of the CIGS
50 nm
5 um
RF Thermal Plasma – Compound Materials
10 um
50 nm 50 nm
Av. Dia (nm) D99/D50
(BET) 51.6
(SEM) 56.61.99
RF Thermal Plasma – Nano-Si
Metal-Graphene Hybrid - Technology
VaporizationVaporization
Precursors(㎛)
Raw MaterialsRaw Materials
ElectrodeElectrode
Nano SizingProcess
Nano SizingProcess
Precursors(㎛)
SpheroidizationProcess
SpheroidizationProcess
ParticleGrowthParticleGrowth
ProductProduct
Metal
Metal DecorationProcess on CarbonMetal DecorationProcess on Carbon
Graphene(Carbon)
Graphene
Silicon
Si-Graphene Hybrid
C-Si
Silicon raw materialGraphene-Silicon MixtureGraphene-Silicon Plasma
Si-Graphene Hybrid
Graphene
Nickel
Ni-Graphene Hybrid
Ni-C
Ni-C
Ni-Graphene Hybrid
Graphene
Silver
Ag-Graphene Hybrid
Graphene
X 50,000
Average Size : 200nm
Average Size : 350nm
X 25,000
Tin
Sn-Graphene Hybrid
D:\업무-CPRI-장비\19.FTIR-Raman\Raman\121113.Graphene Plasma treat\532nm_20x_50slit_G(M5) Raw.1 532nm_20x_50slit_G(M5) Raw
D:\업무-CPRI-장비\19.FTIR-Raman\Raman\121113.Graphene Plasma treat\532nm_20x_50slit_G(M5) TP1.1 532nm_20x_50slit_G(M5) TP1
D:\업무-CPRI-장비\19.FTIR-Raman\Raman\121113.Graphene Plasma treat\532nm_20x_50slit_G(M5) TP2.1 532nm_20x_50slit_G(M5) TP2
2012-11-14
2012-11-14
2012-11-14
3246
.75
2720
.26
1584
.33
1498
.82
1468
.90
1441
.91
1392
.95
1365
.08
1351
.81
500 1000 1500 2000 2500 3000Wavenumber cm-1
0.00
000.
0004
0.00
080.
0012
Ram
an In
tens
ity
Page 1/1
D
G
2D
D peak decreaseG peak increase2D peak increase
G*G’
D peak Less defect lower intensity
2D peakMulti-layer convoluted peakSingle layer one peak and high intensity
Thermal Plasma Powder Processing
CONFIDENTIAL
FEEDER
Collector
FEEDER Reactor Collector
< Specification >
Plasma Length : 2070mm(Coil Length : 4500mm)
Plasma Power : 2kW
Gas Feeding : MFC Control 3Ch
Ar : ~50lpm / O2 : ~1lpm / NH3 : ~1lpm
Halogen Heater : 6kW (up to ~ 500℃ )
Semi-Auto Control
Reactor
Plasma CVD – Equipment
Plasma CVD – Application
XGS H25 HN3 O2 XGS M25 NH3 O2
NH3, after 4days
Angstrom NH3
Sonic tip time
20min 2h
Plasma CVD – Application
After Plasma Before PlasmaAdding surface active agent
Raw Materials
Plasma CVD – Application
OCI(주) & CPRI: 이차전지 소재 양산설비 개발 협약
철원군 - 산업단지
철원플라즈마산업기술연구원
동송농공단지
갈말농공단지
문헤산업단지
KAPRA물리기술연구소
전자빔기술이용센터
플라즈마기업지원동
철원플라즈마산업단지
김화농공단지
준공예정 : 2014년 4월
규 모 : 147,704㎡
총사업비 : 171억원
착공예정 : 2014 년
규 모 : 319,544㎡
총사업비 : 487억원
광운대학교 분교: 나노-바이오 융합과
• 광운대학과 석/박사 학위 과정 협역
• 의미: 지자체 연구원이나 일반 연구원에서 석/박사 학위 과정을 줄 수 있는 것은 큰 국책연구원에만 가능 하였던 것을 실제 협역식을 통해 체결
• 영향력: 철원에 산업을 유치 시키는데 가장 중요한 인적 자원의 수급에 도움.
• 결과: 현재 교과부에 학부과정 “나노융합과”신설을 추진 중 – 현재 500여명의 철원 고등학교 졸업생이 타 지역 대학으로 진학하는데 약 한학년 100명 정도 정원으로 철원에 유치
Thank You
